อะไรคือคุณสมบัติของหน้าจอ TFT liquid ส่วนใหญ่? รายการหลัก ได้แก่ พื้นที่ขนาดใหญ่ การผสานรวมสูง ฟังก์ชันทรงพลัง ต้นทุนต่ำ กระบวนการที่ยืดหยุ่น และขอบเขตการใช้งานกว้าง ด้านล่างนี้เราจะแนะนำคุณสมบัติต่างๆ ของหน้าจอ TFT LCD โดยละเอียด
(1) พื้นที่ขนาดใหญ่: ในช่วงต้นทศวรรษ 1990 สายการผลิต TFT-LCD พื้นผิวกระจกขนาดใหญ่รุ่นแรก (300 มม. x 400 มม.) ถูกนำไปผลิต ภายในครึ่งแรกของปี 2543 ขยายพื้นที่ของพื้นผิวกระจกเป็น 680 มม. × 880 มม.) เมื่อเร็ว ๆ นี้พื้นผิวแก้วขนาด 950 มม. x 1200 มม. ก็จะถูกนำไปใช้งานเช่นกัน
(2) การรวมระดับสูง: ชิป TFT ขนาด 1.3 นิ้วที่ใช้สำหรับการฉายภาพคริสตัลเหลวมีความละเอียด XGA ที่มีพิกเซลนับล้าน อาร์เรย์ TFT ขนาด 16.1 นิ้วที่มีความละเอียด SXGA (1280 × 1024) ความหนาของฟิล์มของซิลิคอนอสัณฐานเพียง 50 นาโนเมตรและเทคโนโลยี TABONGLASS และ SYSTEMONGLASS การรวม ICs ข้อกำหนดสำหรับอุปกรณ์และเทคโนโลยีการจัดหาและเทคนิค ยากกว่าแบบเดิมๆ แอลเอสไอ.
(3) ฟังก์ชันอันทรงพลัง: ครั้งแรกที่ใช้ TFT เป็นวงจรกำหนดแอดเดรสเมทริกซ์เพื่อปรับปรุงลักษณะวาล์วแสงของผลึกเหลว สำหรับจอแสดงผลที่มีความละเอียดสูง ผ่านการปรับแรงดันไฟฟ้าในช่วง 0-6V (ค่าปกติคือ 0.2 ถึง 4V) การควบคุมองค์ประกอบวัตถุได้อย่างแม่นยำ ซึ่งทำให้ LCD มีคุณภาพสูงและสูง - จอแสดงผลความละเอียด
(4) ต้นทุนต่ำ: พื้นผิวแก้วและพื้นผิวพลาสติกแก้ปัญหาต้นทุนของวงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ขนาดใหญ่โดยพื้นฐานแล้ว และเปิดพื้นที่ใช้งานกว้างสำหรับการประยุกต์ใช้วงจรรวมเซมิคอนดักเตอร์ขนาดใหญ่
(5) กระบวนการที่ยืดหยุ่น: นอกเหนือจากการสร้างฟิล์มโดยใช้กระบวนการแบบเดิม เช่น การสปัตเตอร์ CVD (การสะสมไอเคมี) MCVD (การสะสมไอเคมีระดับโมเลกุล) เป็นต้น เทคโนโลยีการหลอมด้วยเลเซอร์ได้เริ่มถูกนำมาใช้ ซึ่งสามารถผลิตอสัณฐานได้ สามารถผลิตฟิล์ม ฟิล์มโพลีคริสตัลลีน และฟิล์มผลึกเดี่ยวได้ มันไม่เพียงแต่สร้างฟิล์มซิลิกอนเท่านั้น แต่ยังสร้างฟิล์มบางเซมิคอนดักเตอร์กลุ่ม II-VI และกลุ่ม III-V อื่นๆ ด้วย
(6) ช่องสมัครกว้าง จอภาพ LCD แบบแบนที่ใช้เทคโนโลยี TFT เป็นอุตสาหกรรมหลักของสังคมสารสนเทศ เทคโนโลยีนี้ยังสามารถนำไปใช้กับจอแบนแบบทรานซิสเตอร์ฟิล์มบางแบบออร์แกนิกอิเล็กโตรลูมิเนสเซนส์ (TFT-OLED) ที่เติบโตอย่างรวดเร็ว กำลังเติบโต
